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更新時(shí)間:2024-10-31 13:31:09瀏覽次數(shù):816

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手機(jī)取卡針雙面鏡面研磨拋光 不銹鋼平面拋光加工 平面鏡面研磨拋光
廠家供應(yīng)平面研磨機(jī)、平面拋光機(jī)、雙面研磨機(jī),是集單面研磨機(jī)、研磨液為一體的生產(chǎn)廠家;為客戶提供平面研磨加工、雙面研磨加工、鏡面拋光等服務(wù);平面研磨加工*,拋光加工可免費(fèi)打樣

經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目有各種五金金屬拋光加工,平面工件研磨拋光加工,異形曲面工件研磨拋光加工,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于超硬材料精密工具加工以及半導(dǎo)體硅晶片、光學(xué)玻璃、陶瓷

詳細(xì)介紹

不銹鋼鏡面拋光的幾種方法目前常用的不銹鋼拋光方法有以下幾種:1 機(jī)械拋光 機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具,表面質(zhì)量 要求高的可采用超精研拋的方法.超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng).利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中的.光學(xué)鏡片模具常采用這種方法.很顯然本公司出售的麻輪用于此類(lèi)型的拋光,主要用于不銹鋼的中拋.2 化學(xué)拋光 化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面.這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高.化學(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制.化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm.3 電解拋光 電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑.與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好. 電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步: (1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm. (2)微光平整 陽(yáng)極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm.4 超聲波拋光 將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光.超聲波加工宏觀力小,不會(huì)引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難.超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合.在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液,使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過(guò)程,利于表面光亮化.5 流體拋光 流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的.常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等.流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng),使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過(guò)工件表面.介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過(guò)性好的特殊化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末.6 磁研磨拋光 磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下達(dá)到鏡面效果。
不銹鋼鏡面拋光的幾種方法目前常用的不銹鋼拋光方法有以下幾種:1 機(jī)械拋光 機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具,表面質(zhì)量 要求高的可采用超精研拋的方法.超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng).利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中的.光學(xué)鏡片模具常采用這種方法.很顯然本公司出售的麻輪用于此類(lèi)型的拋光,主要用于不銹鋼的中拋.2 化學(xué)拋光 化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面.這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高.化學(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制.化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm.3 電解拋光 電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑.與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好. 電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步: (1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm. (2)微光平整 陽(yáng)極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm.4 超聲波拋光 將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光.超聲波加工宏觀力小,不會(huì)引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難.超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合.在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液,使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過(guò)程,利于表面光亮化.5 流體拋光 流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的.常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等.流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng),使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過(guò)工件表面.介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過(guò)性好的特殊化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末.6 磁研磨拋光 磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下達(dá)到鏡面效果。

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