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        對位平臺是源自于德國,采用的方式是用pin針撥動有著磁力開關(guān)的frame,讓上方不動的玻璃得以和下方的框架結(jié)合，到了日本則被改為以電的三向UVW來命名的UVW平臺,然后以此為藍(lán)本,工程師再將其縮小,并大大的降低了高度,組合出了現(xiàn)在?？吹降腦XY形式的對位平臺。原始的磁力開關(guān)也進(jìn)化到以導(dǎo)軌甚或交叉導(dǎo)軌組裝的單體模組,以及由三軸電機甚或四軸電機帶動的高精度對位平臺。

        由于人工加工帶來的眾多諸如良品率低，生產(chǎn)速度低，加工精度低等情況，對位平臺慢慢的就應(yīng)運而生，并且在未來將會是自動化生產(chǎn)中更加*的產(chǎn)品。

        對位平臺的作用

        目前，對位平臺主要應(yīng)用于高速、高精度等產(chǎn)業(yè)。例如半導(dǎo)體業(yè)的晶圓切割,封裝檢測,PCB制造業(yè)的曝光機,網(wǎng)印機,貼合機,壓合機,PCB板裁切,手機制造業(yè),LCD/LED面板制造業(yè),太陽能產(chǎn)業(yè)的太陽能板銀絲印刷。

        對位平臺的功能

        對位平臺是一種利用XY方向的一定單元加上θ角的微量轉(zhuǎn)向,達(dá)到兩個工作物體組合的功能性部件。

        對位平臺的分類

        XXY 對位平臺:就是二個X軸向電動模組,以及一個Y軸向模電動組加上一個自由軸模組組成的XXY對位平臺,他可以利用個軸模組內(nèi)加裝的轉(zhuǎn)盤,在XXY軸同動時產(chǎn)生出θ角的微量旋轉(zhuǎn)。此種精度非常高。

        XYθ 對位平臺:就是以一組X,一組Y向的模組,疊加起來,在上方安置一個旋轉(zhuǎn)機構(gòu),成為一個XYθ對位平臺,一般精度比較低。

        UVW 對位平臺: 就是以兩組X電動模組,一組Y向的電動模組,疊加起來,在上方安置一個電動旋轉(zhuǎn)機構(gòu),成為一個UVW對位平臺。

        XXYY 對位平臺:顧名思義就是二個X軸向電動模組,以及二個Y軸向電動模組組成的XXYY對位平臺,精度,對位速度,機體的剛性都是相對上項各種產(chǎn)品中,制造難度也的。