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DS-098A平面研磨劑精磨液

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更新時間：2022-03-02 13:43:35瀏覽次數：611次

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產品闡述：1、高拋光速率
產品闡述：
1、高拋光速率，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子高速拋光的目的高純度（含量小于50ppb）
2、有效減小對電子類產品的沾污等材料的膠體粒子，不會對加工工件造成物理損傷，達到高水平加工


應用范圍：

廣泛應用于你納米級的化學機械拋光，如：硅片、化合晶體、精密光學器件，硬盤盤片，手機配件，電腦配件，顯示屏等拋光加工


使用注意 事項：

1、產品在貯存一段時間后，會逐漸增稠甚至凍狀，所以在使用時建議以水和溶液1:1的比例兌稀，并攪拌均勻
2、再添加時還應注意體系的粘度，避免由于基料粘度太低或剪切速率低而導致的重復問題
技術指導：
外觀 乳白色稠狀液體 有效含量 小于40%
比重 1.20-0.02 PH值 8.0-1.0
固含量 40.0-1.0 平均原生粒徑 30-100nm
   

    

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