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詳細介紹
LP2和LP2H
LP2是標準配置，而LP2H具有更高的彈簧力，允許使用更長的測針，具有更高的抗機床振動的能力。兩種測頭的DD變體采用雙重密封圈配置，用于冷卻液夾雜大量碎屑的惡劣工作環境中。
所有變體均適用于模塊化OMP40M和OMP60M光學傳輸系統；RMP40M和RMP60M無線電傳輸系統；及感應式傳輸模塊。它們還可以通過硬線連接方式，用于磨床檢測應用。
特性與優點
成熟的運動機構設計。
抗干擾、硬線連接通信。
微型設計。
密封性能增強。
LP2是標準配置，而LP2H具有更高的彈簧力，允許使用更長的測針，具有更高的抗機床振動的能力。兩種測頭的DD變體采用雙重密封圈配置，用于冷卻液夾雜大量碎屑的惡劣工作環境中。
所有變體均適用于模塊化OMP40M和OMP60M光學傳輸系統；RMP40M和RMP60M無線電傳輸系統；及感應式傳輸模塊。它們還可以通過硬線連接方式，用于磨床檢測應用。
特性與優點
成熟的運動機構設計。
抗干擾、硬線連接通信。
微型設計。
密封性能增強。
1 μm至2 μm 2σ重復性（取決于測頭）
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