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蘇州清芯卓半導體設備有限公司
產地 | 國產 |
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腐蝕清洗機是晶圓蝕刻清潔系統,滿足晶片、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求。
晶片規格:
2-12〞單、雙cassette
主要材料:
金屬骨架+PP/PVC殼體,槽體材質PP/PVDF/PTFE/不銹鋼/石英
工藝槽功能:
循環過濾+加熱冷卻+供液
節拍時間:
5-30min可調
設備類型:
手動/半自動/全自動(定制)
Footprint : 7000 (W) x 2200 (D) x 2100(H) mm(非標)
晶圓腐蝕清洗機是晶圓蝕刻清潔系統,滿足晶片、光掩模和基板蝕刻清洗特定工藝需求。
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