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RITG142質(zhì)控軟件

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地	進(jìn)口

RITG142質(zhì)控軟件,TG-142 和 MPPG 8.b 中推薦的每個(gè)基于圖像的測(cè)試的單一供應(yīng)商解決方案。使用 EPID 和 RITG142 軟件，自信而輕松地對(duì)直線加速器進(jìn)行全面的質(zhì)量保證。

詳細(xì)介紹

TG-142 和 MPPG 8.b 中推薦的每個(gè)基于圖像的測(cè)試的單一供應(yīng)商解決方案。使用 EPID 和 RITG142 軟件，自信而輕松地對(duì)直線加速器進(jìn)行全面的質(zhì)量保證。

RITG142質(zhì)控軟件，TG142分析軟件是機(jī)器 QA、MLC QA、成像 QA 以及數(shù)據(jù)跟蹤和趨勢(shì)分析的一體化解決方案，您需要符合 TG-142 和醫(yī)學(xué)物理學(xué)實(shí)用指南（MPPG） 8.b 的全面 LINAC QA。此外，成像 QA 模型通過易于使用的跟蹤和趨勢(shì)分析功能自動(dòng)評(píng)分。

機(jī)器質(zhì)量保證

LINAC 的每日、每月和年度機(jī)器 QA增強(qiáng)型 3D Winston-Lutz（等中心優(yōu)化）和 Virtual Star Shot*自動(dòng)處理一組 EPID Winston-Lutz 圖像，以快速準(zhǔn)確地測(cè)量等中心位置。RIT 版本的此測(cè)試允許您使用 3 到 16 張圖像，并為球設(shè)置和圍繞等中心擺動(dòng)提供誤差估計(jì)。增加的角度靈活性使您能夠模擬更多臨床相關(guān)的角度，以確定特定治療配置下的等中心。*美國專1利9192784、JP Patent 6009705、CA Patent 2918045和其他正在申請(qǐng)的國際專1利。立體定向?qū)?zhǔn) （2D Winston-Lutz）測(cè)試立體定向錐形輪廓字段對(duì)齊

光束測(cè)量輻射/光場(chǎng)重合EPID圖像可以在沒有校準(zhǔn)文件的情況下進(jìn)行分析，并具有自定義的視場(chǎng)大小。中心位置可以通過采取BB、針刺或使用 L-Rad Phantom。全自動(dòng)星形分析非對(duì)稱場(chǎng)/匹配線深度劑量、交叉和正交剖面電子能（TG-25）圖像直方圖等劑量輪廓3D 劑量曲線快速平整度和對(duì)稱性水箱梁測(cè)量分析導(dǎo)入斷層放療®校準(zhǔn)文件斷層放療®是 Accuray， Inc. 的注冊(cè)商標(biāo)

MLC質(zhì)量保證

Varian LINACEPID糾察柵欄測(cè)試此例程可自動(dòng)執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測(cè)試。自動(dòng)化瓦里安 RapidArc®測(cè)試可以在距離 EPID、膠片或 CR 圖像的任何距離處拍攝圖像。這包括：測(cè)試 0.1、0.2、1.1、1.2、2 和 3。 RIT 的 RapidArc QA 例程支持 Millennium 120、HD120 MLC 和 Halcyon®MLC 模型。瓦里安葉速試驗(yàn)在不使用日志文件的情況下，該測(cè)試可測(cè)量瓦里安 MLC 葉片速度在成像儀上移動(dòng)時(shí)的一致性和準(zhǔn)確性。瓦里安·哈爾西恩®MLC分析執(zhí)行糾察圍欄或全面的 RapidArc®Halcyon的分析®MLC

Elekta LINAC
漢考克對(duì)醫(yī)科達(dá)機(jī)器的測(cè)試漢考克測(cè)試（2 圖像測(cè)試、4 圖像測(cè)試和帶備用鉗口測(cè)試）使用 Elekta iView™ 成像儀自動(dòng)測(cè)量葉片位置與等中心位置以及顎葉片后退測(cè)量值。EPID糾察柵欄測(cè)試此例程可自動(dòng)執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測(cè)試。醫(yī)科達(dá)葉速測(cè)試此測(cè)試對(duì)齊兩張圖像，以分析 Elekta iView™ 和 Agility™ 的葉速一致性。

其他 MLC 測(cè)試Bayouth MLC分析分析需要在銀行之間留葉間隙的 MLC。其他 MLC 測(cè)試其中包括：TG-50 糾察柵欄測(cè)試、MSK 葉片測(cè)試、瓦里安 DMLC 測(cè)試模式和 MLC 傳輸分析。

成像 QA

EPID QC模塊RIT長子（EPID QA Phantom - 由 Standard Imaging 制造和銷售。這些測(cè)試包括：5 個(gè)區(qū)域的穩(wěn)定性、分辨率（MTF）、幾何失真、均勻性、對(duì)比度和噪點(diǎn)。PTW電子元拉斯維加斯EPID標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-3

卡坦®、kV 和錐形梁模塊瓦里安 504 CATPHAN瓦里安 604 CATPHAN醫(yī)科達(dá) 503 CATPHAN西門子圖像質(zhì)量 Phantom

DR/CR kV模塊IBA Primus（IBA普里姆斯酒店）®LPTW 諾米®4（20x20厘米和30x30厘米）利茲 TOR-18 FG標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-kV1

kV/MV模塊標(biāo)準(zhǔn)成像 ISOCube五角星指南

基本模塊DICOM圖像查看器DICOM 標(biāo)簽查看器圖像導(dǎo)入：DICOM 目錄瀏覽器、打開目錄瀏覽器、DICOM 文件過濾器手動(dòng)測(cè)量：距離、角度、輪廓、直方圖、圓形和方形 ROI 以及輪廓的 ASCII 輸出輸出格式：打印、PDF 導(dǎo)出、帶有自定義模板的 Excel 導(dǎo)出監(jiān)控圖像質(zhì)量圖像傳輸

自定義公差管理使用公差管理器為所有自動(dòng)模型分析中使用的每個(gè)測(cè)量設(shè)置公差值和通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)。該工具提供了在各種 LINAC 和成像系統(tǒng)上自定義公差所需的靈活性：在易于使用的面板中方便地設(shè)置和切換公差，該面板位于主界面中，并顯示在每個(gè)模型分析例程中。為分析及其相應(yīng)報(bào)告設(shè)置自己的通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)，允許在所有成像 QA 分析中進(jìn)行完1全定制。偏好配置文件和公差是根據(jù)每臺(tái)機(jī)器設(shè)置的。它們可以針對(duì)使用中的每臺(tái)機(jī)器進(jìn)行精確定制。將所有通過/失敗容差數(shù)據(jù)傳輸?shù)絉IT趨勢(shì)數(shù)據(jù)庫，以進(jìn)行統(tǒng)計(jì)跟蹤和趨勢(shì)™分析其他測(cè)量