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蘇州芯矽電子科技有限公司
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地蘇州市
聯(lián)系方式:陳查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間:2025-07-04 23:31:51瀏覽次數(shù):70次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 機(jī)床商務(wù)網(wǎng)產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) | 超聲波功率 | 根據(jù)方案自定義w |
---|---|---|---|
超聲波頻率 | 根據(jù)方案自定義Hz | 界面語(yǔ)言 | 中文,英文 |
內(nèi)槽尺寸(長(zhǎng)×寬×高) | 根據(jù)方案自定義mm | 清洗槽數(shù) | ≥5槽 |
售后保修期 | 24個(gè)月 | 外形尺寸(長(zhǎng)×寬×高) | 根據(jù)方案自定義mm |
銷售區(qū)域 | 全國(guó),華東,華南,華北,華中,東北,西南,西北,港澳臺(tái),海外 | 重量 | 根據(jù)方案自定義kg |
晶圓片清洗設(shè)備專為半導(dǎo)體制程設(shè)計(jì),集成化學(xué)濕法與超聲清洗技術(shù),高效去除晶圓表面微粒、氧化物及殘留污染物。設(shè)備支持單片或批量清洗,兼容RCA標(biāo)準(zhǔn)工藝,配備高精度噴淋系統(tǒng)與溫控模塊,確保均勻性與工藝穩(wěn)定性。采用耐腐蝕材料構(gòu)建,適應(yīng)HF、H?O?等強(qiáng)腐蝕性溶液,結(jié)合在線監(jiān)測(cè)功能,保障清洗后晶圓潔凈度達(dá)到納米級(jí)標(biāo)準(zhǔn),適用于芯片制造、封裝前處理等場(chǎng)景,提升良品率與生產(chǎn)效率。
一、產(chǎn)品性能
高效清洗能力:
單片清洗時(shí)間≤5分鐘,顆粒去除率≥99.9%(≥0.1μm),滿足制程對(duì)潔凈度的嚴(yán)苛要求。
支持兆聲波(1MHz)與化學(xué)濕法聯(lián)合清洗,剝離光刻膠殘留、氧化物及納米級(jí)污染物。
均勻性控制:
噴淋系統(tǒng)+流體動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì),溫差≤±0.5℃,流速波動(dòng)<5%,確保晶圓表面無(wú)局部污染。
低損傷設(shè)計(jì):
非接觸式干燥技術(shù)(熱風(fēng)+離心干燥),避免機(jī)械擦拭導(dǎo)致的劃痕或崩邊。
軟包覆機(jī)械臂傳輸,兼容薄片(厚度≤100μm)及大尺寸晶圓(如12英寸)。
二、用材與工藝
核心部件材質(zhì):
腔體:316L不銹鋼+特氟龍防腐涂層,耐HF、H?O?、緩沖氧化物腐蝕(pH 2-12)。
密封件:氟橡膠(FKM)材質(zhì),長(zhǎng)期耐受酸堿環(huán)境,壽命>10,000次循環(huán)。
流體管路:PFA(全氟烷氧聚合物)材質(zhì),防止清洗液二次污染。
表面處理:腔體內(nèi)壁鏡面拋光(Ra≤0.2μm),減少微粒吸附。
三、參數(shù)表
參數(shù) | 規(guī)格 |
---|---|
適用晶圓尺寸 | 4-12英寸(兼容多尺寸) |
清洗模式 | 濕法化學(xué)清洗、兆聲波清洗 |
溫度范圍 | 常溫~80℃(PID精準(zhǔn)控溫) |
流量控制 | 0.1-5L/min(可調(diào)) |
干燥方式 | 熱風(fēng)+離心甩干(殘水率<5ppm) |
電源 | AC 380V, 50Hz |
氣源要求 | 潔凈氮?dú)猓兌取?9.99%) |
四、產(chǎn)品用途
用途:
前道制程:光刻后清洗、蝕刻后殘留物去除。
后道封裝:芯片粘接前表面活化與清潔。
特殊場(chǎng)景:化合物半導(dǎo)體(如GaN)、MEMS器件清洗。
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